| 企业等级： | 普通会员 |
| 经营模式： | 生产加工 |
| 所在地区： | 北京 大兴区 |
| 联系卖家： | 苏经理 女士 |
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| 公司官网： | bjsmld.tz1288.com |
| 公司地址： | 北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208 |
发布时间：2022-03-23 03:10:00 作者：赛米莱德
政策扶持
为促进我国光刻胶产业的发展，国家02重大专项给予了大力支持。今年5月，02重大专项实施管理办公室组织任务验收组、财务验收组通过了“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目的任务验收和财务验收。
据悉，经过项目组全体成员的努力攻关，完成了EUV光刻胶关键材料的设计、制备和合成工艺研究、配方组成和光刻胶制备、实验室光刻胶性能的初步评价装备的研发，达到了任务书中规定的材料和装备的考核指标。项目共申请发明15项（包括国际5项），截止到目前，共获得授权10项（包括国际授权3项）。目前，半导体市场上主要使用的光刻胶包括g线、i线、KrF、ArF四类光刻胶，其中，g线和i线光刻胶是市场上使用量较大的。
光刻工艺主要性一
光刻胶不仅具有纯度要求高、工艺复杂等特征，还需要相应光刻机与之配对调试。一般情况下，一个芯片在制造过程中需要进行10~50道光刻过程，由于基板不同、分辨率要求不同、蚀刻方式不同等，不同的光刻过程对光刻胶的具体要求也不一样，即使类似的光刻过程，不同的厂商也会有不同的要求。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，当没有溶解存在时，线性酚醛树脂会溶解在显影液中，感光剂是光敏化合物，***常见的是重氮萘醌（DNQ）。
针对不同应用需求，光刻胶的品种非常多，这些差异主要通过调整光刻胶的配方来实现。因此，通过调整光刻胶的配方，满足差异化的应用需求，是光刻胶制造商***的技术。
此外，由于光刻加工分辨率直接关系到芯片特征尺寸大小，而光刻胶的性能关系到光刻分辨率的大小。限制光刻分辨率的是光的干涉和衍射效应。光刻分辨率与曝光波长、数值孔径和工艺系数相关。
|
光刻胶编码 HS编码: |
3707100001 [类注] | [章注] | [子目注释] |
| 中文描述: | 不含银的感光乳液剂 （CIQ码：301:液体） |
| 英文描述: | Non--0--silver light-sensitive emulsion agent |
| 申报要素: | 0.品牌类型；1.出口享惠情况；2.用途；3.包装；4.成分；5.是否含银；6.品牌；7.型号；8.是否有感光作用（以下要素仅上海海关要求）9.GTIN；5,显影液在已经曝光的硅衬底胶面喷淋显影液，或将其浸泡在显影液中，正胶是曝光区、而负胶是非曝光区的胶膜溶入显影液，胶膜中的潜影显现出来，形成三维图像。10.CAS |
| 申报要素举例: | / 1.感光剂；2.用途:感光材料，用于喷墨制版机；3.包装:瓶装；4.成分:重氮树脂94%以上；5.无品牌；6.无型号 |
| 单位: | 千克 |
NR9-3000PY
11．请教~有没有同时可以满足RIE
process 和Lift-off
process的光阻，谢谢！
A 我们推荐使用Futurrex
NR1-300PY来满足以上工艺的需求。
12．Futurre光刻胶里，有比较容易去除的负光阻吗？
A NR9-系列很容易去除，可以满足去胶需要。
13．我们目前用干膜做窄板，解析度不够，希望找到好的替代光阻？
A NR9-8000因为有很高的AR比例，适合取代，在凸块的应用上也有很大的好处。
14．传统的Color
filter 制程，每个颜色的烘烤时间要2-3个小时，有没有更快的方法制作Coior
filter?
A 用于Silylation制程------烘烤时间只需要2分钟，同时光阻不需要Reflow, 颜色也不会老化改变，只需要在Filter上面加热溶解PR1-2000S光阻，Microlenses就能形成！
15．请问有专门为平坦化提供材料的公司吗？
A 美国Futurrex公司，专门生产应用化学品的，可以为平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是为平坦化用途设计，台湾企业用的比较多。
16．我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布PROTECTIVE
COATING，那种适合？？
A 推荐美国Futurrex，PC4-10000。
17．腊是用来固定芯片的，但很难清洗干净，哪里有可以替代的产品介绍下，谢谢？
A 我们公司是使用Futurrex
PC3-6000,可以替代的，而且去除比较容易，你可以试用下。
18．请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与MEMS应用的光刻胶吗？
A NR4-8000P可以做到140微米的厚度，并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题，如果是其他非镀镍衬底NR9-8000P是适合的选择。
19．谁有用在光波导图案的光刻胶？是否可以形成角度为30度的侧壁？
A 你必须实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷，NR4-8000P是专门为光波导图案应用进行设计的产品。
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