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NR94 8000PY光刻胶报价产品介绍「赛米莱德」

发布时间:2022-02-03 04:14:00        作者:赛米莱德







美国Futurrex光刻胶

北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY,此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线(366纳米)曝光工具。当显影后显示出负的侧壁角度,是lift-off工艺中比较简易的光刻胶。和其他胶相比NR9i-3000PY有下面的优势: 1. 比较高的光刻速度,可以定制光刻速度来曝光产量 2. 比较高的分辨率和快的显影时间 3. 根据曝光能量可以比较容易的调整侧壁角度 4. 耐温可以达到100摄氏度 5. 用RR5去胶液可以很容易的去胶 NR9-3000PY的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。主要的溶剂是,NR9-3000PY的显影在水溶液里完成。属固含量(%):31-35 主要溶剂: 外观: 浅液体涂敷能:均匀的无条纹涂敷 100摄氏度热板烘烤300秒后膜厚涂敷自旋速度 40秒自旋。坚膜温度通常情况高于前烘和曝光后烘烤的温度100-140度10-30min7,显影检验光刻胶钻蚀、图像尺寸变化、套刻对准不良、光刻胶膜损伤、线条是否齐、陡小孔、小岛。

 


政策扶持

为促进我国光刻胶产业的发展,国家02重大专项给予了大力支持。今年5月,02重大专项实施管理办公室组织任务验收组、财务验收组通过了“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目的任务验收和财务验收。

据悉,经过项目组全体成员的努力攻关,完成了EUV光刻胶关键材料的设计、制备和合成工艺研究、配方组成和光刻胶制备、实验室光刻胶性能的初步评价装备的研发,达到了任务书中规定的材料和装备的考核指标。项目共申请发明15项(包括国际5项),截止到目前,共获得授权10项(包括国际授权3项)。三、光刻胶涂覆(PhotoresistCoating)光刻胶涂覆通常的步骤是在涂光刻胶之前,先在900-1100度湿氧化。


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光刻胶稳定性

化学稳定性:在正常储存和操作条件下,在密闭容器中室温稳定。

避免的条件: 火源、湿气、过热的环境。

不相容的其他材料: 强氧化剂。

光刻胶毒理资料

淡黄色液体,气味微弱。引起皮肤、眼睛、粘膜和呼吸道的刺激。可以通过皮肤吸收而引起全身性的症状。液体是可燃的。

毒性数据

皮肤:可以通过皮肤吸收而引起全身性的症状,类似于吸入。长时间或重复接触可引起轻度至中度的刺激或皮炎。

眼睛:引起眼睛发炎。

吸入:吸入时可能有害。引起呼吸道刺激。蒸气可能导致困倦和头晕。

摄食:吞食有害。

延迟效应:肝和损害,以及动物实验中有报道血液和GU髓有影响。


NR77-20000PMSDS

光刻胶运输标识及注意事项

标签上标明的意思

R标识

R10 YI燃。

S标识

S16  远离火源-禁止吸烟。

S 24 避免接触皮肤。

S 33对静电放电采取预防措施。

S 9  将容器保持在通风良好的地方。


水生毒性

通过自然环境中的化学、光化学和微生物降解来分解。一般不通过水解降解。300 ppm对水生生物是安全的。卤化反应可能发生在水环境中。



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