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北京赛米莱德贸易有限公司

主营: 光刻胶

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北京赛米莱德贸易有限公司
第7年 |    
企业等级: 普通会员
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RR41光刻胶公司诚信企业「赛米莱德」

发布时间:2021-11-20 07:33:00        作者:赛米莱德







美国Futurrex光刻胶

北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY,此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线(366纳米)曝光工具。当显影后显示出负的侧壁角度,是lift-off工艺中比较简易的光刻胶。和其他胶相比NR9i-3000PY有下面的优势: 1. 比较高的光刻速度,可以定制光刻速度来曝光产量 2. 比较高的分辨率和快的显影时间 3. 根据曝光能量可以比较容易的调整侧壁角度 4. 耐温可以达到100摄氏度 5. 用RR5去胶液可以很容易的去胶 NR9-3000PY的制作和工艺是根据职业和环境的安全而设计。主要的溶剂是,NR9-3000PY的显影在水溶液里完成。属固含量(%):31-35 主要溶剂: 外观: 浅液体涂敷能:均匀的无条纹涂敷 100摄氏度热板烘烤300秒后膜厚涂敷自旋速度 40秒自旋。显示器,OLEDs,波导(waveguides),VCSELS,成像,电镀,纳米碳管,微流体,芯片倒装等方面。

 


LCD市场助力

***LCD面板总出货面积增长,LCD光刻胶需求增加。据WitsView数据,虽然近三年国际LCD厂商面板出货量有所下降,但是由于大屏显示的市场扩增,LCD整体出货面积变大,2016年出货总面积达到1.7亿平方米,同比增长4.6%。随着LCD出货面积的持续增长,中国产业信息网预测,未来几年***LCD光刻胶的需求量增长速度为4%~6%。随着国内厂商占据LCD市场比重越来越大,国内LCD光刻胶需求也会持续增长。而细化到半导体用光刻胶市场,国内企业份额不足30%,与国际水平存在较大差距。


NR77-20000PMSDS

光刻胶运输标识及注意事项

标签上标明的意思

R标识

R10 YI燃。

S标识

S16  远离火源-禁止吸烟。

S 24 避免接触皮肤。

S 33对静电放电采取预防措施。

S 9  将容器保持在通风良好的地方。


水生毒性

通过自然环境中的化学、光化学和微生物降解来分解。一般不通过水解降解。300 ppm对水生生物是安全的。卤化反应可能发生在水环境中。



光刻胶

光刻胶由光引发剂、树脂、溶剂等基础组分组成,又被称为光致抗蚀剂,这是一种对光非常敏感的化合物。此外,光刻胶中还会添加光增感剂、光致产酸剂等成分来达到提高光引发效率、优化线路图形精密度的目的。在受到紫外光曝光后,它在显影液中的溶解度会发生变化。江苏博砚电子科技有限公司董事长宗健表示,光刻胶要真正实现国产化,难度很大。

分类

根据光刻胶按照如何响应紫外光的特性可以分为两类。

正胶

曝光前对显影液不可溶,而曝光后变成了可溶的,能得到与掩模板遮光区相同的图形。

优点:分辨率高、对比度好。

缺点:粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。

灵敏度:曝光区域光刻胶完全溶解时所需的能量

负胶egative






Photo Resist)

与正胶反之。

优点: 良好的粘附能力和抗刻蚀能力、感光速度快。

缺点: 显影时发生变形和膨胀,导致其分辨率。

灵敏度:保留曝光区域光刻胶原始厚度的50%所需的能量。


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