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发布时间:2021-09-22 01:44:00 作者:赛米莱德
LCD市场助力
***LCD面板总出货面积增长,LCD光刻胶需求增加。据WSTS和SIA统计数据,2016年中国半导体市场规模为1659。据WitsView数据,虽然近三年国际LCD厂商面板出货量有所下降,但是由于大屏显示的市场扩增,LCD整体出货面积变大,2016年出货总面积达到1.7亿平方米,同比增长4.6%。随着LCD出货面积的持续增长,中国产业信息网预测,未来几年***LCD光刻胶的需求量增长速度为4%~6%。随着国内厂商占据LCD市场比重越来越大,国内LCD光刻胶需求也会持续增长。
光刻胶国内的研发起步较晚
光刻胶的研发,关键在于其成分复杂、工艺技术难以掌握。光刻胶的重要性在北京化工大学理学院院长聂俊眼里,我国虽然已成为世界半导体生产大国,但面板产业整体产业链仍较为落后。光刻胶主要成分有高分子树脂、色浆、单体、感光引发剂、溶剂以及添加剂,开发所涉及的技术难题众多,需从低聚物结构设计和筛选、合成工艺的确定和优化、活性单体的筛选和控制、色浆细度控制和稳定、产品配方设计和优化、产品生产工艺优化和稳定、终使用条件匹配和宽容度调整等方面进行调整。因此,要自主研发生产,技术难度非常之高。
在光刻胶研发上,我国起步晚,2000年后才开始重视。近几年,虽说有了快速发展,但整体还处于起步阶段。事实上,工艺技术水平与国外企业有着很大的差距,尤其是材料及设备都仍依赖进口。
NR9-3000PYPR1 1500A1光刻胶厂家
二、预烘和底胶涂覆(Pre-bake and Primer Vapor)
由于光刻胶中含有溶剂,所以对于涂好光刻胶的硅片需要在80度左右的。硅片脱水烘焙能去除圆片表面的潮气、增强光刻胶与表面的黏附性、通常大约100 °C。这是与底胶涂覆合并进行的。
底胶涂覆增强光刻胶(PR)和圆片表面的黏附性。广泛使用: (HMDS)、在PR旋转涂覆前HMDS蒸气涂覆、PR涂覆前用冷却板冷却圆片。
美国Futurre光刻胶
30.想请教国产光刻胶不能达到膜厚要求,进口的有没有比较好的光刻胶啊?
都可以啊!goodpr是大陆比较多公司采用的,
但是Futurre 光刻胶在国外是比较有名气的,包括很多大型企业都有用,膜厚做的也
比较厚从18um-200um都 可以做到,看你对工艺的要求了。
光刻胶品牌FUTURRE光刻胶产品属性:
1 FUTURRE光刻胶产品简要描述及优势:
1.1 Futurre光刻胶黏附性好,无需使用增粘剂(HMDS)
1.2 负性光刻胶常温下可保存3年
1.3 150度烘烤,缩短了烘烤时间
1.4 单次旋涂能够达到100um膜厚
1.5 显影速率快,100微米的膜厚,仅需6~8分钟
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