企业等级: | 普通会员 |
经营模式: | 生产加工 |
所在地区: | 北京 大兴区 |
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公司官网: | bjsmld.tz1288.com |
公司地址: | 北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208 |
发布时间:2021-01-17 02:58:00 作者:赛米莱德
PCB稳定
PCB被誉为'电子产品',广泛应用于各个电子终端。2016年,***PCB市场规模达542.1亿美元。广泛使用:(HMDS)、在PR旋转涂覆前HMDS蒸气涂覆、PR涂覆前用冷却板冷却圆片。国外研究机构预测,PCB市场年复合增长率可达3%,到2020年,PCB***市场规模将达到610亿美元;中国在2020年PCB产值有望达到311亿美元,在2015-2020年期间,年复合增长率略高于国际市场,为3.5%。得益于PCB行业发展刚需,我国PCB光刻胶需求空间巨大。
光刻的工序
下面我们来详细介绍一下光刻的工序:
一、清洗硅片(Wafer Clean)
清洗硅片的目的是去除污染物去除颗粒、减少其它缺陷,提高光刻胶黏附性
基本步骤:化学清洗——漂洗——烘干。
自1970年美国RCA实验室提出的浸泡式RCA化学清洗工艺得到了广泛应用,1978年RCA实验室又推出兆声清洗工艺,近几年来以RCA清洗理论为基础的各种清洗技术不断被开发出来,例如:美国FSI公司推出离心喷淋式化学清洗技术、美国原CFM公司推出的Full-Flow systems封闭式溢流型清洗技术、美国VERTEQ公司推出的介于浸泡与封闭式之间的化学清洗技术(例Goldfinger Mach2清洗系统)、美国SSEC公司的双面檫洗技术(例M3304 DSS清洗系统)、 日本提出无药液的电介离子水清洗技术(用电介超纯离子水清洗)使抛光片表面洁净技术达到了新的水平、以HF / O3为基础的硅片化学清洗技术。在光刻胶的生产上,我国主要生产PCB光刻胶,LCD光刻胶和半导体光刻胶生产规模较小,2015年据统计我国光刻胶产量为9。
NR77-20000PYNR29 25000P光刻胶厂家
光刻胶存储条件及操作防护
光刻胶是一种可燃液体,储存条件应符合对应的法规,不要与强氧化剂混合,存放在通风良好的地方,保持容器密闭,避免吸入蒸汽或雾气,避免接触眼睛、皮肤或衣服,操作后***清洗。
个人防护
眼睛:佩戴化学飞溅护目镜。
皮肤:戴上适当的防护手套防止皮肤暴露。
服装:穿戴合适的防护服防止皮肤暴露。
呼吸器:无论何时在工作环境下呼吸保护必须遵循中国职业安全健康管理局标准的规定和ANSI美国***学会Z88.2的相关要求,或必须执行欧洲呼吸防护EN 149的标准。
PR1-1000A1
NR9-3000PY 负性光刻胶
负胶 NR9-3000PY 被设计用于i 线(365 nm)曝光,可使用如步进光刻、扫描投影式光刻、接近式光刻
和接触式光刻等工具。
显影之后,NR9-3000PY 展现出一种倒梯形侧壁,这可以方便地作单纯的LIFT-OFF 处理。
NR9-3000PY 相对于其他光刻胶具有如下优势:
- 优异的分辨率性能
- 快速地显影
- 可以通过调节曝光能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度
- 耐受温度100℃
- 室温储存保质期长达3 年
Lift-Off工藝
應用領域:LEDs,OLEDs,displays,MEMS,packaging,biochips。
濕法蝕刻,鍍 干法蝕刻(RIE/Ion Milling/Ion implantation)
附着力好Temperature resistance = 100°C 耐高溫Temperature resistance = 180°C
Resist Thickness NR9-3000PY 负性光刻胶
负胶 NR9-3000PY 被设计用于i 线(365
nm)曝光,可使用如步进光刻、扫描投影式光刻、接近式光刻
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