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PR1 2000A1光刻胶价格服务为先「多图」

发布时间:2022-07-27 07:43:00        作者:赛米莱德







NR9-1000py

问题回馈:

1.我们是LED制造商,麻烦推荐几款可以用于离子蚀刻和Lift-off工艺的光刻胶。

A 据我所知,Futurrex

有几款胶很,NR7-1500P

NR7-3000P是专门为离子蚀刻

设计的,NR9-3000PY可以用于Lift-off上的应用。

2.请问有没有可以替代goodpr1518,Micropure去胶液和goodpr显影液的产品?

A 美国光刻胶,Futurrex

正胶PR1-2000A

, 去胶液RR4,和显影液RD6可以解决以上问题。

3.你们是否有可以替代Shipley

S1805的用于DVD的应用产品?

A 我们建议使用Futurrex

PR1-500A , 它有几个优点:比较好的解析度,比较好的线宽控制,

反射比较少,不需要HMDS,RIE后去除容易等~

4. 求助,耐高温的光阻是那一种?

A Futurrex, NR7 serious(负光阻)Orpr1 serious(正光阻),再经过HMCTS

silyiation process,可以达到耐高温200度,PSPI透明polyimide,可耐高温250度以上。

5.厚膜光阻在镀金应用上,用哪一种比较理想?

A Futurrex , NR4-8000P比干膜,和其他市面上的湿膜更加适合,和理想。

6.请教LIFT-OFF制程哪一种光阻适合?

A 可以考虑使用Futurrex

,正型光阻PR1,负型光阻用NR1&NR7,它们都可以耐高温180度,完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。

7.请问,那位知道,RIE

Mask,用什么光阻比较好?

A 正型光阻用PR1系列,负型光阻使用NR5,两种都可以耐高温180度。

8.一般厚膜制程中,哪一种光阻适合?

A NR9-8000P有很高的深宽比(超过4:1),一般厚膜以及,MEMS产品的高需求。

9.在DEEP

RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P吗?

A 建议不使用,因为使用NR5-8000更加理想和适合。

10.我们是OLED,我们有一种制程上需要一层SPACER,那种光阻适合?

A 有一种胶很适合,美国Futurrex

生产的NR1-3000PY

and和

NR1-6000PY,都适合在OLED制程中做spacers



NR9-250P

20.有没有光刻胶PC3-6000的资料吗?

A PC3-6000并不是光刻胶,它是用在chip

on glass 上的胶粘剂。

21.是否有Wax替代品?

A PC3-6000可替代Wax做晶片和玻璃的固定,比较容易去除掉。

22.贵公司是否有粘接硅衬底和衬底的材料?

A 有,IC1-200就是

23.请问是否有不用HMDS步骤的正性光刻胶?

A 美国Futurrex 整个系列的光刻胶都不需要HMDS步骤,都可以简化。

24.一般电话咨询光刻胶,我们应该向客户咨询哪些资料?

A 1 需要知道要涂在什么材质上,2

还有要知道需要做的膜厚,3

还要知道光刻胶的分辨率

4还有需要正胶还是负胶,5

需要国产还是进口的

27.想找一款膜厚在120um,的光刻胶,有什么光刻胶可以做到啊!

A 以前有使用过美国有款光刻胶可以达到Futurrex

NR21-20000P ,。

28.有没有了解一款美国Futurrex

NR9-250P的光刻胶,请教下?

A 这是一款负性光刻胶,湿法蚀刻使用的,附着力很好,耐100度的温度,国内也有可以代理的公司,Futurre

光刻胶是世界第4大的电子化学品制造商,在光刻胶的领域有着不错的声誉,在太阳能光伏,和LED半导体行业都有不错的市场占有率。

29.想找款膜厚的产品,进行蚀刻,有什么好推荐?

A 厚膜应用(thick

film applicati),主要是指高纵横比(Aspect

ratios),高分辨率,高反差,有几款产品向你推荐一下《NR4-8000P,NR2-20000P,NR5-8000,这些产品都需要用到边胶清洗液》


的光刻


发展

Futurrex在开发产品方面已经有很长的历史

我们的客户一直在同我们共同合作,创造出了很多强势的产品。

在晶体管(transistor) ,封装,微机电。显示器,OLEDs,波导(waveguides) ,VCSELS,

成像,电镀,纳米碳管,微流体,芯片倒装等方面。我们都已经取得一系列的技术突破。

目前Futurrex有数百个技术在美国商标局备案。

Futurrex 产品目录

正性光刻胶

增强粘附性正性光刻胶

负性光刻胶

增强粘附性负性光刻胶

***工艺负性光刻胶

用于lift-off工艺的负性光刻胶

非光刻涂层

平坦化,保护、粘接涂层

氧化硅旋涂(spin-on glas)

掺杂层旋涂

辅助化学品

边胶清洗液

显影液

去胶液

Futurrex所有光刻产品均无需加增粘剂(HMDS)


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