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北京赛米莱德贸易有限公司

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NR9 1500P光刻胶公司来电咨询「赛米莱德」

发布时间:2022-06-05 11:23:00        作者:赛米莱德







NR77-25000PNR9 1500P光刻胶公司

表征光刻胶特性和性能、质量的参数有以下三个:
(1)光学性质。光刻胶的光学性质包括光敏度和折射率。
(2)力学特性和化学特性。光刻胶的力学特性和化学特性包括胶的固溶度、黏滞度、黏着度、抗蚀(刻蚀、腐蚀)性、热稳定性、流动性和对环境气氛(如氧气)的敏感度。
(3)其他特性。目前,半导体市场上主要使用的光刻胶包括g线、i线、KrF、ArF四类光刻胶,其中,g线和i线光刻胶是市场上使用量较大的。光刻胶的其他特性包括胶的纯度、胶内的金属含量、胶的可应用范围、胶的储存有效期和胶的燃点。


NR77-20000PMSDS

光刻胶运输标识及注意事项

标签上标明的意思

R标识

R10 YI燃。

S标识

S16  远离火源-禁止吸烟。

S 24 避免接触皮肤。

S 33对静电放电采取预防措施。

S 9  将容器保持在通风良好的地方。


水生毒性

通过自然环境中的化学、光化学和微生物降解来分解。一般不通过水解降解。300 ppm对水生生物是安全的。卤化反应可能发生在水环境中。



NR9-3000PY

11.请教~有没有同时可以满足RIE

process 和Lift-off

process的光阻,谢谢!

A 我们推荐使用Futurrex

NR1-300PY来满足以上工艺的需求。

12.Futurre光刻胶里,有比较容易去除的负光阻吗?

A NR9-系列很容易去除,可以满足去胶需要。

13.我们目前用干膜做窄板,解析度不够,希望找到好的替代光阻?

A NR9-8000因为有很高的AR比例,适合取代,在凸块的应用上也有很大的好处。

14.传统的Color

filter 制程,每个颜色的烘烤时间要2-3个小时,有没有更快的方法制作Coior

filter?

A 用于Silylation制程------烘烤时间只需要2分钟,同时光阻不需要Reflow, 颜色也不会老化改变,只需要在Filter上面加热溶解PR1-2000S光阻,Microlenses就能形成!

15.请问有专门为平坦化提供材料的公司吗?

A 美国Futurrex公司,专门生产应用化学品的,可以为平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是为平坦化用途设计,台湾企业用的比较多。

16.我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布PROTECTIVE

COATING,那种适合??

A 推荐美国Futurrex,PC4-10000。

17.腊是用来固定芯片的,但很难清洗干净,哪里有可以替代的产品介绍下,谢谢?

A 我们公司是使用Futurrex

PC3-6000,可以替代的,而且去除比较容易,你可以试用下。

18.请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与MEMS应用的光刻胶吗?

A NR4-8000P可以做到140微米的厚度,并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题,如果是其他非镀镍衬底NR9-8000P是适合的选择。

19.谁有用在光波导图案的光刻胶?是否可以形成角度为30度的侧壁?

A 你必须实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷,NR4-8000P是专门为光波导图案应用进行设计的产品。


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