企业等级: | 普通会员 |
经营模式: | 生产加工 |
所在地区: | 北京 大兴区 |
联系卖家: | 苏经理 女士 |
手机号码: | 15201255285 |
公司官网: | bjsmld.tz1288.com |
公司地址: | 北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208 |
发布时间:2022-05-20 02:29:00 作者:赛米莱德
LCD市场助力
***LCD面板总出货面积增长,LCD光刻胶需求增加。据WitsView数据,虽然近三年国际LCD厂商面板出货量有所下降,但是由于大屏显示的市场扩增,LCD整体出货面积变大,2016年出货总面积达到1.7亿平方米,同比增长4.6%。中国在2020年PCB产值有望达到311亿美元,在2015-2020年期间,年复合增长率略高于国际市场,为3。随着LCD出货面积的持续增长,中国产业信息网预测,未来几年***LCD光刻胶的需求量增长速度为4%~6%。随着国内厂商占据LCD市场比重越来越大,国内LCD光刻胶需求也会持续增长。
光刻胶:用化学反应进行图像转移的媒介
光刻胶具有光化学敏感性,其经过曝光、显影、刻蚀等工艺,可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。
光刻胶和集成电路制造产业链的前端的即为光刻胶***化学品,生产而得的不同类型的光刻胶被应用于消费电子、家用电器、信息通讯、汽车电子、航空航天等在内的各个下游终端领域,需求较为分散。
光刻胶基于应用领域不同一般可以分为半导体集成电路(IC)光刻胶、 PCB光刻胶以及LCD光刻胶三个大类。其中, PCB光刻胶占***市场24.5%,半导体IC光刻胶占***市场24.1%,LCD光刻胶占***市场26.6%。
NR77-25000P,RD8
品牌
产地
型号
厚度
曝光
应用
加工
特性
Futurrex
美国
NR71-1000PY
0.7μm~2.1μm
高温耐受
用于i线曝光的负胶
LEDOLED、
显示器、
MEMS、
封装、
生物芯片等
金属和介电
质上图案化,
不必使用RIE
加工器件的永
组成
(OLED显示
器上的间隔
区)凸点、
互连、空中
连接微通道
显影时形成光刻胶倒
梯形结构
厚度范围:
0.5~20.0 μm
i、g和h线曝光波长
对生产效率的影响:
金属和介电质图案化
时省去干法刻蚀加工
不需要双层胶技术
NR71-1500PY
1.3μm~3.1μm
NR71-3000PY
2.8μm~6.3μm
NR71-6000PY
5.7μm~12.2μm
NR9-100PY
粘度增强
NR9-1500PY
NR9-3000PY
2.8μm~6.3μm
NR9-6000PY
NR71G-1000PY
负胶对 g、h线波长的灵敏度
NR71G-1500PY
NR71G-3000PY
NR71G-6000PY
NR9G-100PY
0.7μm~2.1μm
NR9G-1500PY
1.3μm~3.1μm
NR9G-3000PY
NR9G-6000PY
耐热温度
PR1-500A
0.4μm~0.9μm
美国Futurre光刻胶
30.想请教国产光刻胶不能达到膜厚要求,进口的有没有比较好的光刻胶啊?
都可以啊!goodpr是大陆比较多公司采用的,
但是Futurre 光刻胶在国外是比较有名气的,包括很多大型企业都有用,膜厚做的也
比较厚从18um-200um都 可以做到,看你对工艺的要求了。
光刻胶品牌FUTURRE光刻胶产品属性:
1 FUTURRE光刻胶产品简要描述及优势:
1.1 Futurre光刻胶黏附性好,无需使用增粘剂(HMDS)
1.2 负性光刻胶常温下可保存3年
1.3 150度烘烤,缩短了烘烤时间
1.4 单次旋涂能够达到100um膜厚
1.5 显影速率快,100微米的膜厚,仅需6~8分钟
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