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北京赛米莱德贸易有限公司

主营: 光刻胶

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北京赛米莱德贸易有限公司
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RR5光刻胶公司免费咨询「赛米莱德」

发布时间:2022-05-20 02:29:00        作者:赛米莱德







LCD市场助力

***LCD面板总出货面积增长,LCD光刻胶需求增加。据WitsView数据,虽然近三年国际LCD厂商面板出货量有所下降,但是由于大屏显示的市场扩增,LCD整体出货面积变大,2016年出货总面积达到1.7亿平方米,同比增长4.6%。中国在2020年PCB产值有望达到311亿美元,在2015-2020年期间,年复合增长率略高于国际市场,为3。随着LCD出货面积的持续增长,中国产业信息网预测,未来几年***LCD光刻胶的需求量增长速度为4%~6%。随着国内厂商占据LCD市场比重越来越大,国内LCD光刻胶需求也会持续增长。


光刻胶:用化学反应进行图像转移的媒介

光刻胶具有光化学敏感性,其经过曝光、显影、刻蚀等工艺,可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。

光刻胶和集成电路制造产业链的前端的即为光刻胶***化学品,生产而得的不同类型的光刻胶被应用于消费电子、家用电器、信息通讯、汽车电子、航空航天等在内的各个下游终端领域,需求较为分散。

光刻胶基于应用领域不同一般可以分为半导体集成电路(IC)光刻胶、 PCB光刻胶以及LCD光刻胶三个大类。其中, PCB光刻胶占***市场24.5%,半导体IC光刻胶占***市场24.1%,LCD光刻胶占***市场26.6%。


NR77-25000P,RD8


 品牌

 产地

 型号

 厚度

 曝光

 应用

 加工

 特性

 Futurrex

 美国

 NR71-1000PY

 0.7μm~2.1μm

 高温耐受

 用于i线曝光的负胶

 LEDOLED、

     显示器、

 MEMS、

     封装、

     生物芯片等

     金属和介电

     质上图案化,

     不必使用RIE

     加工器件的永

    组成

    (OLED显示

     器上的间隔

     区)凸点、

     互连、空中

     连接微通道

     显影时形成光刻胶倒

     梯形结构

     厚度范围:

     0.5~20.0 μm

     i、g和h线曝光波长

     对生产效率的影响:

     金属和介电质图案化

     时省去干法刻蚀加工

     不需要双层胶技术

 NR71-1500PY

  1.3μm~3.1μm

 NR71-3000PY

 2.8μm~6.3μm

 NR71-6000PY

 5.7μm~12.2μm

 NR9-100PY

 粘度增强

 NR9-1500PY

 NR9-3000PY

 2.8μm~6.3μm

 NR9-6000PY

 NR71G-1000PY

  负胶对  g、h线波长的灵敏度

 NR71G-1500PY

 NR71G-3000PY

 NR71G-6000PY

 NR9G-100PY

 0.7μm~2.1μm

 NR9G-1500PY

 1.3μm~3.1μm

 NR9G-3000PY

 NR9G-6000PY

 耐热温度

 PR1-500A

 0.4μm~0.9μm




美国Futurre光刻胶

30.想请教国产光刻胶不能达到膜厚要求,进口的有没有比较好的光刻胶啊?

都可以啊!goodpr是大陆比较多公司采用的,

但是Futurre 光刻胶在国外是比较有名气的,包括很多大型企业都有用,膜厚做的也

比较厚从18um-200um都 可以做到,看你对工艺的要求了。

光刻胶品牌FUTURRE光刻胶产品属性:

1  FUTURRE光刻胶产品简要描述及优势:

1.1   Futurre光刻胶黏附性好,无需使用增粘剂(HMDS)

1.2  负性光刻胶常温下可保存3年

1.3  150度烘烤,缩短了烘烤时间

1.4  单次旋涂能够达到100um膜厚

1.5  显影速率快,100微米的膜厚,仅需6~8分钟


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