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PR1 2000A1光刻胶报价了解更多「赛米莱德」

发布时间:2022-05-19 02:37:00        作者:赛米莱德







光刻胶分类


市场上,光刻胶产品依据不同标准,可以进行分类。依照化学反应和显影原理分类,光刻胶可以分为正性光刻胶和负性光刻胶。使用正性光刻胶工艺,形成的图形与掩膜版相同;使用负性光刻胶工艺,形成的图形与掩膜版相反。

按照感光树脂的化学结构分类,光刻胶可以分为①光聚合型,采用烯类单体,在光作用下生成自由基,进一步引发单体聚合,后生成聚合物,具有形成正像的特点;章宇轩介绍,我们在日常工作生活中,之所以能从显示屏幕上看到色彩斑斓的画面,就是离不开屏幕中厚度只有2μm、却占面板成本16%的一层彩色薄膜。②光分解型,采用含有叠氮醌类化合物的材料,其经光照后,发生光分解反应,可以制成正性胶;③光交联型,采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,形成一种不溶性的网状结构,而起到抗蚀作用,可以制成负性光刻胶。

按照曝光波长分类,光刻胶可分为紫外光刻胶(300~450nm)、深紫外光刻胶(160~280nm)、极紫外光刻胶(EUV,13.5nm)、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X射线光刻胶等。③光交联型,采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,形成一种不溶性的网状结构,而起到抗蚀作用,可以制成负性光刻胶。不同曝光波长的光刻胶,其适用的光刻极限分辨率不同,通常来说,在使用工艺方法一致的情况下,波长越小,加工分辨率越佳。


光刻胶介绍

光刻胶介绍

光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料,可以在光照后发生化学性质的改变,这是整个工艺的基础。

光刻胶有不同的类型,PMMAPMGI)以及DNQ(酚醛树脂)等材料都可以做光刻胶。

 目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等国家,包括 FUTURREX、陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、LG化学等等,中国公司在光刻胶领域也缺少***技术。

 


NR77-5000PY

PR1-2000A1 试验操作流程

PR1-2000A1的厚度范围可以做到 1500到3500nm,如下以膜厚2900nm为列;

1,静态滴胶后以1300转/分速度持续40秒。同时必须需要在1秒内达到从0转/分到1300转/分的升速度;

2,前烘:热板120度120秒;

3,冷却至室温;

4,用波长为365,406,436的波长曝光,

5,在温度为20-25度,使用RD6浸泡式、喷雾、显影 ;

6,去除光刻胶,可使用CH3COCH3,RR5,RR41等。





发展

Futurrex在开发产品方面已经有很长的历史

我们的客户一直在同我们共同合作,创造出了很多强势的产品。

在晶体管(transistor) ,封装,微机电。显示器,OLEDs,波导(waveguides) ,VCSELS,

成像,电镀,纳米碳管,微流体,芯片倒装等方面。我们都已经取得一系列的技术突破。

目前Futurrex有数百个技术在美国商标局备案。

Futurrex 产品目录

正性光刻胶

增强粘附性正性光刻胶

负性光刻胶

增强粘附性负性光刻胶

***工艺负性光刻胶

用于lift-off工艺的负性光刻胶

非光刻涂层

平坦化,保护、粘接涂层

氧化硅旋涂(spin-on glas)

掺杂层旋涂

辅助化学品

边胶清洗液

显影液

去胶液

Futurrex所有光刻产品均无需加增粘剂(HMDS)


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