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发布时间:2022-05-09 02:42:00 作者:赛米莱德
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5,显影液
在已经曝光的硅衬底胶面喷淋显影液,或将其浸泡在显影液中,正胶是曝光区、而负胶是非曝光区的胶膜溶入显影液,胶膜中的潜影显现出来,形成三维图像。
显影完成后通常进行工艺线的显影检验,通常是在显微镜下观察显影效果,显影是否***、光刻胶图形是否完好。
影响显影的效果主要因素:
1,曝光时间,2前烘温度和时间,3光刻胶膜厚,4显影液浓度温度,5显影液的搅动情况。
PC6-16000
NR9-3000PY 相对于其他光刻胶具有如下优势:
- 优异的分辨率性能
- 快速地显影
- 可以通过调节曝光能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度
- 耐受温度100℃
- 室温储存保质期长达3 年
NR9-1000PY 0.7μm - 2.1μm
NR9-1500PY 1.1μm - 3.1μm
NR9-3000PY 2.1μm - 6.3μm
NR9-6000PY 5.0μm -
12.2μm
Resist Thickness
NR71-1000PY 0.7μm - 2.1μm
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?Futurrex
提供***化学技术的多样化解决方案
成立于1985年,总部设在美国新泽西州,富兰克林市,高速成长并超过20年连续盈利的跨国公司
公司业务覆盖范围包括北美,亚太以及欧洲
基于多样化的技术
应用领域:微电子、光电子、LED、太阳能光伏、微机电系统、生物芯片、微流体、平面印刷
解决方案:的光刻胶、掺杂涂层、平坦化涂层、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻挡层(Barrior Layere)、湿法制程
客户:从财富100强到以风险投资为背景的设备研发及制造公司
使命
目标
提供特殊化学品和全新工艺来增加客户的产能
策略
提供***的产品来优化生产制程,以提高设备能效
领的技术提升生产过程中的整体***
工艺步骤的减少降低了成本和产生瑕疵的可能
增加客户的产能和生产的效率
工艺减化
非同寻常的显微构造、金属及介电层上的图形转换、光刻、平坦化、掺杂、蚀刻、邦定
在生产过程中,不含有害溶剂
支持所有客户的需要,与客户共创成功
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