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发布时间：2022-04-15 03:16:00 作者：赛米莱德
光刻胶工艺
普通的光刻胶在成像过程中，由于存在一定的衍射、反射和散射，降低了光刻胶图形的对比度，从而降低了图形的分辨率。随着曝光加工特征尺寸的缩小，入射光的反射和散射对提高图形分辨率的影响也越来越大。为了提高曝光系统分辨率的性能，Futurrex 的光刻胶正在研究在曝光光刻胶的表面覆盖抗反射涂层的新型光刻胶技术。该技术的引入，可明显减小光刻胶表面对入射光的反射和散射，从而改善光刻胶的分辨率性能，但由此将引起工艺复杂性和光刻成本的增加。1Futurre光刻胶黏附性好，无需使用增粘剂（HMDS）1。
PR1-1000A1PR1 2000A1光刻胶厂家PR1 2000A1光刻胶厂家
5,显影液
在已经曝光的硅衬底胶面喷淋显影液，或将其浸泡在显影液中，正胶是曝光区、而负胶是非曝光区的胶膜溶入显影液，胶膜中的潜影显现出来，形成三维图像。
显影完成后通常进行工艺线的显影检验，通常是在显微镜下观察显影效果，显影是否***、光刻胶图形是否完好。
影响显影的效果主要因素：
1，曝光时间，2前烘温度和时间，3光刻胶膜厚，4显影液浓度温度，5显影液的搅动情况。
NR9-3000PY
11．请教~有没有同时可以满足RIE
process 和Lift-off
process的光阻，谢谢！
A 我们推荐使用Futurrex
NR1-300PY来满足以上工艺的需求。
12．Futurre光刻胶里，有比较容易去除的负光阻吗？
A NR9-系列很容易去除，可以满足去胶需要。
13．我们目前用干膜做窄板，解析度不够，希望找到好的替代光阻？
A NR9-8000因为有很高的AR比例，适合取代，在凸块的应用上也有很大的好处。
14．传统的Color
filter 制程，每个颜色的烘烤时间要2-3个小时，有没有更快的方法制作Coior
filter?
A 用于Silylation制程------烘烤时间只需要2分钟，同时光阻不需要Reflow, 颜色也不会老化改变，只需要在Filter上面加热溶解PR1-2000S光阻，Microlenses就能形成！
15．请问有专门为平坦化提供材料的公司吗？
A 美国Futurrex公司，专门生产应用化学品的，可以为平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是为平坦化用途设计，台湾企业用的比较多。
16．我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布PROTECTIVE
COATING，那种适合？？
A 推荐美国Futurrex，PC4-10000。
17．腊是用来固定芯片的，但很难清洗干净，哪里有可以替代的产品介绍下，谢谢？
A 我们公司是使用Futurrex
PC3-6000,可以替代的，而且去除比较容易，你可以试用下。
18．请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与MEMS应用的光刻胶吗？
A NR4-8000P可以做到140微米的厚度，并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题，如果是其他非镀镍衬底NR9-8000P是适合的选择。
19．谁有用在光波导图案的光刻胶？是否可以形成角度为30度的侧壁？
A 你必须实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷，NR4-8000P是专门为光波导图案应用进行设计的产品。
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